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266nm

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266nm薄膜

发布时间：2024-06-26

浏览量：301

产品简介：薄膜特性：R＜0.1%@248nm；损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns应用场景：光刻机、KrF激光器等

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薄膜特性：R＜0.1%@248nm；

损伤阈值：>1.2J/cm2@248nm, 1ns

应用场景：光刻机、KrF激光器等

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薄膜特性：T＞97%@193nm；R＞95%@193nm （石英）； T＞99%@193nm；R＞95%@193nm （ CaF2 ）。薄膜工艺：有偏重光学特性和偏种抗激光损伤两种工艺应用场景：光刻机、ArF激光器等。

: 4.26um 带通滤光片

应用于CO2 气体检测。要求4.26μm 波段透过率尽量高，1.5-14μm 透过率尽量低。典型参数如下：基板：蓝宝石、单晶硅等光谱特性：T>85%@4.26μm，T<1%@1.5-14μm，半峰宽210nm

: 拍瓦系列镀膜

薄膜特性：45°入射，Rp>99.7@808±46nm基板特性：肖特微晶玻璃，ZERODUR；离轴抛物面反射镜350x350mm应用场景：超强超短激光，一般是指峰值功率大于1太瓦（1太瓦=1万亿瓦），脉冲宽度小于100飞秒（1飞秒等于1千万亿分之一秒）的激光。我司镀膜镜子成功用于实现10拍瓦激光放大输出，这种输出等于1亿亿瓦，相当于全球电网

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