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193nm

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193nm薄膜

发布时间：2024-06-26

浏览量：145

产品简介：薄膜特性：T＞97%@193nm；R＞95%@193nm （石英）； T＞99%@193nm；R＞95%@193nm （ CaF2 ）。薄膜工艺：有偏重光学特性和偏种抗激光损伤两种工艺应用场景：光刻机、ArF激光器等。

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详细信息

薄膜特性：T＞97%@193nm；R＞95%@193nm （石英）；

T＞99%@193nm；R＞95%@193nm （ CaF2 ）。

薄膜工艺：有偏重光学特性和偏种抗激光损伤两种工艺

应用场景：光刻机、ArF激光器等。

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薄膜特性：T＞97%@193nm；R＞95%@193nm （石英）； T＞99%@193nm；R＞95%@193nm （ CaF2 ）。薄膜工艺：有偏重光学特性和偏种抗激光损伤两种工艺应用场景：光刻机、ArF激光器等。

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