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拍瓦系列镀膜

拍瓦系列镀膜

发布时间：2024-06-26

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产品简介：薄膜特性：45°入射，Rp>99.7@808±46nm基板特性：肖特微晶玻璃，ZERODUR；离轴抛物面反射镜350x350mm应用场景：超强超短激光，一般是指峰值功率大于1太瓦（1太瓦=1万亿瓦），脉冲宽度小于100飞秒（1飞秒等于1千万亿分之一秒）的激光。我司镀膜镜子成功用于实现10拍瓦激光放大输出，这种输出等于1亿亿瓦，相当于全球电网

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薄膜特性：45°入射，Rp>99.7@808±46nm

基板特性：肖特微晶玻璃，ZERODUR；离轴抛物面反射镜350x350mm

应用场景：超强超短激光，一般是指峰值功率大于1太瓦（1太瓦=1万亿瓦），脉冲宽度小于100飞秒

（1飞秒等于1千万亿分之一秒）的激光。我司镀膜镜子成功用于实现10拍瓦激光放大输出，这种输出等于1亿亿瓦，相当于全球电网平均功率的5000倍

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: 变形镜

基板特性：K9，390mm×390mm×8mm反射面形：PV< 2λ（λ=632.8nm）损伤阈值：> 28J/cm2 @1064nm，3ns应用场景：用于神光3装置，公认的高难度镀膜。是自适应系统最核心的光学元件。对光谱、面型和阈值都有极其苛刻的要求。

: 1064nm窄带(合束镜)

薄膜特性：22°入射，R>99.5@1053nm，T > 99%@ 1064nm，半峰宽 3nm应用场景：激光器系统中通常要求对相邻的两束光进行合束。比如对1053nm进行反射，1064nm进行透射等。为了具有尽可能高的合束效率，通常需要类似窄带滤光片的光谱特性

: 激光保护片

薄膜特性：T＞99.9%@1030-1090nm。损伤特性：＞50KW/cm2 或＞25J/cm2，1064nm，5ns,10Hz ；吸收小于1PPM应用场景：人造太阳、神光项目镜片；切割机、焊接机的保护片和振镜等；半导体激光器芯片和巴条

: 193nm薄膜

薄膜特性：T＞97%@193nm；R＞95%@193nm （石英）； T＞99%@193nm；R＞95%@193nm （ CaF2 ）。薄膜工艺：有偏重光学特性和偏种抗激光损伤两种工艺应用场景：光刻机、ArF激光器等。

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变形镜

1064nm窄带(合束镜)

激光保护片

193nm薄膜